Автор работы: Пользователь скрыл имя, 13 Июля 2013 в 10:04, курсовая работа
Цель работы — приобрести навыки самостоятельного решения инженерных задач по разработке конструкции и технологии микросхем.
В схему данного прибора входят: резисторы, конденсаторы, диоды и транзисторы. В данной работе разрабатываются все этапы от анализа технического задания до выпуска конструкторской (КД) и технологической (ТД) документации для производства триггера в интегральном исполнении. Основными этапами являются: выбор материалов пленочных резисторов, проводников, подложки, а также конструкции корпуса, навесных компонентов и технологического оборудования. Разрабатываются топология платы, технологический процесс изготовления платы и сборки всей микросхемы на основе типовых технологических процессов.
РЕФЕРАТ....................................................................................................................5
ВВЕДЕНИЕ.................................................................................................................6
1 АНАЛИЗ ТЕХНИЧЕСКОГО ЗАДАНИЯ...........................................................7
1.1 Состав технического задания............................................................................7
1.1.1 Электрические требования.......................................................................7
1.1.2 Конструктивные требования....................................................................7
1.1.3 Производственно-технологические требования.....................................7
1.1.4 Эксплуатационные требования................................................................7
1.1.5 Дополнительные требования....................................................................8
1.2 Обеспечение технических требований.............................................................8
1.3 Анализ элементной базы....................................................................................8
2 ВЫБОР И ОБОСНОВАНИЕ ВЫБОРА МАТЕРИАЛОВ...............................9
2.1 Резистивные материалы.....................................................................................9
2.2 Проводниковые материалы.............................................................................10
2.3 Материал подложки.........................................................................................10
3 РАСЧЕТ КОНСТРУКЦИИ ПЛАТЫ................................................................12
3.1 Расчет геометрических размеров плёночных резисторов............................12
3.1.1 Расчёт коэффициента формы резисторов.............................................15
3.1.2 Расчёт геометрических размеров резисторов с Кф<1...........................15
3.2 Конструкторско-технологические требования к навесным
компонентам.....................................................................................................17
3.3 Расчет и выбор типоразмера платы................................................................18
4 РАЗРАБОТКА СХЕМЫ КОММУТАЦИИ И АНАЛИЗ КАЧЕСТВА
ТОПОЛОГИЧЕСКОГО ЧЕРТЕЖА….............................................................19
5 РАСЧЕТ КОНСТРУКЦИИ КОРПУСА….......................................................21
5.1 Расчет типоразмера корпуса............................................................................21
5.2 Обоснование выбранной конструкции корпуса............................................23
5.2.1 Описание конструкции корпуса.............................................................23
5.2.2 Обоснование выбора материалов корпуса............................................23
5.3 Выбор и обоснование метода герметизации..................................................24
5.4 Контроль герметичности корпуса...................................................................25
6 ВЫБОР И ОБОСНОВАНИЕ ВЫБОРА МЕТОДОВ
МИКРОКОНТАКТИРОВАНИЯ НАВЕСНЫХ КОМПОНЕНТОВ,
КОНТАКТНЫХ ПЛОЩАДОК ПЛАТЫ И ВЫВОДОВ КОРПУСА..........27
7 РАЗРАБОТКА МАРШРУТНЫХ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ
ПРОЦЕССОВ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГИС...........................................................29
7.1 Технологический процесс изготовления платы............................................29
7.2 Технологический процесс сборки ГИС..........................................................34
8 ОПИСАНИЕ И ОБОСНОВАНИЕ РАЗРАБОТАННОЙ МАРШРУТНОЙ
ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГИС. ВЫБОР И ОБОСНОВАНИЕ
ВЫБОРА СООТВЕТСТВУЮЩЕГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО
ОБОРУДОВАНИЯ...............................................................................................38
8.1 Описание и обоснование разработанной маршрутной технологии
изготовления ГИС. Выбор и обоснование выбора соответствующего
технологического оборудования....................................................................38
8.2 Технические характеристики используемого оборудования.......................43
ВЫВОДЫ..................................................................................................................49
ПЕРЕЧЕНЬ ССЫЛОК...........................................................
Министерство образования и науки Украины
Запорожский национальный технический университет
Институт информатики и радиоэлектроники
ПОЯСНИТЕЛЬНАЯ ЗАПИСКА К КУРСОВОМУ ПРОЕКТУ
на тему:
"РАЗРАБОТКА КОНСТРУКЦИИ И
ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ
по дисциплине:
ГКИЮ 431279.007 ПЗ
Выполнил ст. гр. РП - 113 Хало Н.А
Принял
2012
ЗАПОРОЖСКИЙ НАЦИОНАЛЬНЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ
Кафедра ИТЄС
Дисциплина Технология и конструирование микросхем и микросборок
Специальность Производство электронных средств
Курс IІІ Группа РП-110 Семестр V
ЗАДАНИЕ
на курсовой проект (работу) студента
Хало Николаю Андреевичу
(фамилия, имя, отчество)
1. Тема проекта (работы): Разработка конструкции и технологии изготовления логического элемента в интегральном исполнении
2. Срок сдачи студентом
3. Исходные
данные к проекту (работе):
4. Содержание
расчетно-пояснительной
Рассчитать геометрические размеры пленочных резисторов, рассчитать размеры платы, составить топологию, выбрать корпус и обеспечить его герметизацию, выбрать метод микроконтактирования, разработать технологический процесс изготовления платы и ИМС, выбрать оборудование, составить операционные карты
5. Перечень графического
Схема электрическая принципиальная–ф.А4(л.1), перечень элементов–ф.А4(л.1), плата–ф.А3,А2,А2(л.3 ), сборочный чертеж–ф.А2,А1(л.2), спецификация–ф.А4(л.2)
6. Дата выдачи задания
7. Подпись руководителя
(фамилия, имя, отчество)
8. Подпись студента
СОДЕРЖАНИЕ
РЕФЕРАТ.......................
ВВЕДЕНИЕ......................
1 АНАЛИЗ ТЕХНИЧЕСКОГО
ЗАДАНИЯ.......................
1.1 Состав технического
задания.......................
1.1.1 Электрические требования....................
1.1.2 Конструктивные требования.....
1.1.3 Производственно-
1.1.4 Эксплуатационные требования...
1.1.5 Дополнительные требования....................
1.2 Обеспечение технических
требований....................
1.3 Анализ элементной
базы..........................
2 ВЫБОР И ОБОСНОВАНИЕ
ВЫБОРА МАТЕРИАЛОВ.............
2.1 Резистивные материалы.........
2.2 Проводниковые материалы.....................
2.3 Материал подложки.............
3 РАСЧЕТ КОНСТРУКЦИИ
ПЛАТЫ.........................
3.1 Расчет геометрических
размеров плёночных резисторов.
3.1.1 Расчёт коэффициента формы
резисторов....................
3.1.2 Расчёт геометрических
размеров резисторов с Кф<1..........................
3.2 Конструкторско-
компонентам...................
3.3 Расчет и выбор
типоразмера платы.............
4 РАЗРАБОТКА СХЕМЫ КОММУТАЦИИ И АНАЛИЗ КАЧЕСТВА
ТОПОЛОГИЧЕСКОГО
ЧЕРТЕЖА…......................
5 РАСЧЕТ КОНСТРУКЦИИ
КОРПУСА…......................
5.1 Расчет типоразмера
корпуса.......................
5.2 Обоснование выбранной
конструкции корпуса...........
5.2.1 Описание конструкции корпуса..
5.2.2 Обоснование выбора материалов
корпуса.......................
5.3 Выбор и обоснование
метода герметизации...........
5.4 Контроль герметичности
корпуса.......................
6 ВЫБОР И ОБОСНОВАНИЕ ВЫБОРА МЕТОДОВ
МИКРОКОНТАКТИРОВАНИЯ НАВЕСНЫХ КОМПОНЕНТОВ,
КОНТАКТНЫХ
ПЛОЩАДОК ПЛАТЫ И ВЫВОДОВ
7 РАЗРАБОТКА МАРШРУТНЫХ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ
ПРОЦЕССОВ
ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГИС..............
7.1 Технологический
процесс изготовления платы....
7.2 Технологический
процесс сборки ГИС...........................
8 ОПИСАНИЕ И ОБОСНОВАНИЕ РАЗРАБОТАННОЙ МАРШРУТНОЙ
ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГИС. ВЫБОР И ОБОСНОВАНИЕ
ВЫБОРА
СООТВЕТСТВУЮЩЕГО
ОБОРУДОВАНИЯ..................
8.1 Описание и
обоснование разработанной
изготовления ГИС. Выбор и обоснование выбора соответствующего
технологического оборудования..................
8.2 Технические характеристики
используемого оборудования....
ВЫВОДЫ........................
ПЕРЕЧЕНЬ ССЫЛОК...............
ПРИЛОЖЕНИЕ А – эскиз топологии.....................
ПРИЛОЖЕНИЕ Б – операционные карты……………………………………52
Контроль
герметичности микросхемы………………
ПЗ: 59 страниц, 10 таблиц, 7 рисунков, 2 приложения.
Объект исследования – конструкция и технология изготовления логического элемента в микроэлектронном исполнении.
Методы исследования: аналитический, графоаналитический, по нормативно-технической документации.
Цель работы — приобрести навыки самостоятельного решения инженерных задач по разработке конструкции и технологии микросхем.
КОРПУС, ТРАНЗИСТОР, МИКРОСХЕМА, РЕЗИСТОР, ПОДЛОЖКА, ТИПОРАЗМЕР ПЛАТЫ, ИМС, НАВЕСНОЙ КОМПОНЕНТ.
ВВЕДЕНИЕ
В настоящее время наблюдается значительное расширение применения в приборах и средствах автоматизации элементной базы повышенной надежности и быстродействия, микросхем большой функциональной сложности и высокой степени интеграции [1]. Накоплен достаточный опыт в технологии микроэлектронных изделий, для того чтобы определить, какой из конструктивно-технологических вариантов больше всего соответствует данному типу схемы.
В данной работе
разработаны конструкция и
Во-первых, наиболее
подходят для изготовления по тонкопленочной
технологии микросхемы, в которых
число пассивных элементов
Во-вторых, пленочные и навесные резисторы и конденсаторы обычно имеют допуски, диапазон параметров, температурные коэффициенты и некоторые другие свойства лучшие, чем в полупроводниковых интегральных микросхемах.
В-третьих, цена оборудования, необходимого для производства тонкопленочной гибридной микросхемы определенного типа, значительно меньше, чем для производства полупроводниковой схемы того же типа. Поэтому то минимальное количество схем, при котором производство становится рентабельным, также оказывается меньше при гибридно-пленочной технологии, чем при полупроводниковой.
И, наконец, перспективностью пленочного гибридного варианта для аналоговых и линейных микросхем.
Применение
интегральных микросхем позволяет
уменьшить габариты и массу аппаратуры
в несколько раз, а микропроцессоров
- в десятки и сотни раз. Это
объясняется тем, что размеры
элементов интегральных микросхем
составляют от нескольких миллиметров
до единиц и десятых долей микрометра.
Малые габариты ИМС и малое
потребление ими электрической
энергии позволяют осуществить
комплексную
1 АНАЛИЗ ТЕХНИЧЕСКОГО ЗАДАНИЯ
1.1 Состав технического
задания и требования к
Исходными данными для данной работы являются:
- Схема электрическая принципиальная, ГКИЮ 431279.007Э3;
- Перечень элементов, ГКИЮ 431279.007 ПЭ3.
Потребляемая мощность до - 100 мВт
Частотный диапазон
Микросхема должна иметь законченную конструкцию. Предназначена для
установки на печатную плату в горизонтальном исполнении.
Необходимо обеспечить:
- точность
изготовления пленочных
- минимальные габариты;
- максимальную стандартизацию и унификацию конструкции;
- защиту
от воздействия окружающей
Тип производства - крупносерийный. Необходимо обеспечить максимальную технологичность. Технология изготовления - тонкопленочная. Метод формирования рисунка - фотолитография. Шаг координатной сетки – 0,05 мм.
Тип климата – УХЛ, группа эксплуатации – 3.
Значение
температуры воздуха при
верхнее значение +60 °С;
нижнее значение -40 °С;
среднее значение +10 °С;
диапазон рабочих температур 100 °С.
Относительная влажность – 70% при температуре + 25 °С. Предельное значение – 98%.
Микросхема должна подвергаться следующим механическим испытаниям:
- на прочность
при воздействии
- на прочность при воздействии механических ударов одиночного действия;
- на прочность при транспортировании;
- на прочность при падении.
Срок службы 8 лет.