Автор работы: Пользователь скрыл имя, 16 Апреля 2013 в 19:16, реферат
Интегральные микросхемы, в которых на ряду с пленочными элементами, сформированными по групповой тонко- или толстопленочной технологии, содержатся имеющие самостоятельное конструктивное исполнение полупроводниковые активные компоненты (ИМС, транзисторы, диоды), изготовлены по полупроводниковой технологии, называют гибридными интегральными микросхемами (ГИС).
ГИС по сравнению с полупроводниковыми имеют ряд преимуществ: обеспечивают широкий диапазон номиналов, меньшие пределы допусков и лучшие электрические характеристики пассивных элементов (более высокая добротность, температурная и временная стабильность, меньшее число и менее заметное влияние паразитных элементов); позволяют использовать любые дискретные компоненты, в том числе полупроводниковые БИС и СБИС.
ВВЕДЕНИЕ
1. Элементы и компоненты гибридных интегральных микросхем
1.1. Подложки ГИС
1.2. Элементы ГИС
1.3. Компоненты ГИС
2. Технология производства гибридных интегральных микросхем
2.1. Технологические маршруты производства тонкопленочных ГИС
2.2. Технологические маршруты производства толстопленочных ГИС
2.3. Нанесение тонких пленок в вакууме
2.4. Нанесение толстых пленок
3. Применение ГИС микросхем в микроэлектронной аппаратуре
3.1. Особенности применения ГИС в МЭА
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
плотно прилегать к трафарету, обеспечивая постоянство давления, оказываемого на пасту, что достигается благодаря держателю ракеля.
Кроме трафаретной печати
можно наносить резистивные пасты
под давлением с помощью
После нанесения производится сушка и вжигание пасты. При сушке (120-2000 С) происходит удаление летучих органических растворителей. Лучше использовать инфракрасную сушку. При других методах сушки на поверхности слоя пасты может образоваться корка, препятствующая выходу летучих веществ, вследствие чего после вжигания пленка может быть пористой и содержать раковины.
Сборка ГИС заключается
в установке на подложку навесных
компонентов и их электрическом
присоединении к пленочным
Пленочные конденсаторы занимают большую площадь на подложке, требуют нескольких циклов нанесения и вжигания. Трудоемкость изготовления толстопленочных конденсаторов ограничивают их применение, поэтому в толстопленочных ГИС чаще применяют навесные конденсаторы. В толстопленочных ГИС обычно используют пленочные резисторы.
Дискретные полупроводниковые компоненты толстопленочных ГИС имеют балочные, гибкие проволочные и жесткие выводы. Монтаж навесных компонентов на подложку производят методом пайки мягким припоем или с помощью токопроводящих клеев.
Изготовленную толстопленочную ГИС устанавливают в корпус и герметизируют. Надежность ГИС, стабильность ее параметров обеспечиваются на всех этапах изготовления.
3 Применение ГИС микросхем
в микроэлектронной аппаратуре
3.1 Особенности применения ГИС в МЭА
В аналоговой аппаратуре
ГИС по сравнению с полупроводниковыми
ИМС имеют более широкие
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
Гибридная технология микроэлектронных
устройств развивается и
Таким образом, ГИС – широко распространенный, постоянно совершенствующийся, развивающийся конструктивно-технологический вариант изготовления изделий микроэлектроники. Создание ГИС и БГИС – одна из ступеней микроминиатюризации микроэлектронных устройств, комплексов и систем, перспективное направление развития научно-технического прогресса в области микроэлектроники.
ЛИТЕРАТУРА
1. "Микроэлектроника: Учеб. пособие для втузов. В 9 кн. /под ред. Л.А. Коледова. Кн. 4. Гибридные интегральные микросхемы/ Л.А. Коледов, Э.М. Ильина. – М.: Высш. шк., 1987.
2. Малышев И.А. "Технология
производства интегральных
3. Курносов А.И. "Технология
производства