Автор работы: Пользователь скрыл имя, 30 Августа 2013 в 11:12, реферат
Существующие в настоящее время методы осаждения тонких пленок с использованием низкотемпературной плазмы и ионного луча дают возможность получать пленки различных материалов (в том числе тугоплавких и многокомпонентного состава), которые практически невозможно получить термовакуумным методом. Ионно-плазменные методы осаждения пленок дают возможность создания установок и линий непрерывного действия и позволяют осуществить полную автоматизацию всего цикла получения покрытия. Развитие ионно-плазменных процессов получения тонких пленок идет в направлении повышения качества пленок (снижение загрязнений и радиационных дефектов) и повышения производительности процессов.
Введение
1.Характиристика процесса ионно- плазменного нанесения…………………. 5 стр
2.Реактивное ионно-плазменное нанесение материалов ……………………… 6 стр
3.Разновидности процесса ионно-плазменного нанесения плёнок …….. 9 стр
4.Устройство высокочастотного распыления …………………………………………. 11 стр
5.Реактивный ионно-лучевой синтез тонких плёнок …………………………….. 13 стр
6. Заключение …………………………………………………………………………………………… 14 стр
7.Список литературы ………………………………………………………………………………… 15 стр